- ろ過精度
- 1μm~5μmの固体
- 使用可能温度範囲
- -40°C- 60°C
- 流速
- 500~1,000,000 Nm³/h
- 作動圧力
- ≤42.0MPa
産業ガス業界において、適切に設計されたUNITEろ過システムは、単なるフィルター層を積み重ねただけのものにとどまらず、包括的なソリューションです。UNITEは生産の継続性を確保し、様々な用途に不可欠なガス供給を途切れることなく維持します。
当社のシステムは、極めて高い製品純度を保証し、微量の汚染物質さえも除去することで、厳しい業界基準を満たします。さらに、UNITEのろ過システムは、有害な粒子を捕捉することで、環境保護に大きく貢献します。
UNITEのろ過システムは、シンプルな構造、高い信頼性、そして優れた環境適応性を備えており、産業ガス生産において不可欠な基盤となり、効率性と安全性を支えています。
ろ過システムは、機械的遮断や慣性衝突などの物理的メカニズムにより、ガスから固体粒子や液体ミストを効率的かつ安定的に除去し、下流の精密機器を確実に保護するとともに、化学副生成物を生じることなく極めて高いガス純度を実現します。さらに、低エネルギー消費、容易なメンテナンス、材料回収のサポートといった経済的な利点も備えており、クリーン生産の実現と長期的な運用コストの削減に最適な選択肢となります。
エネルギー・電力産業は、ろ過システムにとって最大規模の市場の一つです。ガスタービン、空気圧縮機、内燃機関の吸気口において、高効率ろ過システムは重要な役割を果たします。これらのシステムは、高速回転するブレードの摩耗、汚染、熱腐食の原因となる可能性のある大気中の塵埃や塩水噴霧を捕捉します。こうした問題を防止することで、ろ過システムは機器の寿命を延ばし、熱効率を維持し、安定した効率的な発電を実現します。
半導体製造のクリーンルームでは、物理ろ過が最高レベルに達します。システムには超高効率フィルター(ULPA)が採用されています。これらのフィルターは、0.1μmという微細な粒子を含む、ナノスケール粒子の99.999%以上を空気中から除去できます。フォトリソグラフィーなどの精密プロセスは粉塵に非常に敏感であるため、このレベルのろ過は不可欠です。わずかな粉塵粒子でもこれらのプロセスを阻害し、歩留まりの低下につながる可能性があります。したがって、高品質の半導体製造を維持するためには、ろ過システムが空気を清浄に保つ能力が極めて重要です。
石油・ガス・化学産業において、物理ろ過システムは多層的な保護と「冗長性」のあるセキュリティ対策を提供します。天然ガスの採掘・輸送時には、凝集分離器などのシステムが使用されます。これらのシステムは、ガス流から液体炭化水素、水ミスト、固体不純物を除去します。これにより、脱硫塔、分子ふるい、ブースターステーションなどの下流設備を損傷や非効率性から保護します。化学プロセスにおいては、ろ過システムは貴金属触媒粉末の回収にも関与しており、これはコスト効率が良いだけでなく、廃棄物を削減し貴重な資源の再利用を可能にするため、環境にも優しいと言えます。
当サイトでは、お客様のサイト利用状況に関する情報を収集するためにクッキーを使用しています。収集した情報は、ウェブサイトの最適な動作とサービスの向上に役立てています。詳細はこちら